第32 卷

    2004 年7 月

    分析化学(FENXI HUAXUE) 评述与进展

    Chinese Journal of Analytical Chemistry

    第7 期

    982

    过氧化氢氧化硫酸耐尔蓝催化褪色光度法测定痕量硅

    刘佳铭

    3

    姜玉颖 叶 丹

    (漳州师范学院化学系,漳州363000)

    2003204219 收稿;2004201212 接受

    1 引 言

    测定痕量硅的方法有硅钼蓝光度法、间接原子吸收光谱法、硅钼蓝杂多酸极谱法、流动注射示差动力学化学发光法、硅钼蓝2罗丹明B 离子缔合物分光光度法、阻抑2褪色光度法、硅锑钼杂多酸2罗丹明B 四元络合体系光度法、乙基罗丹明

    B2硅钼杂多酸2PVA 光度法、乙基罗丹明B2硅钼杂多酸2阿拉伯树胶体系分光光度法及停流流动注射化学发光法, 未见

    有催化过氧化氢氧化硫酸耐尔蓝褪色光度法测量痕量Si d 的报道 ......