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编号:2271877
两种正畸粘接剂在磨除抛光后对牙釉质表面的影响
http://www.100md.com 2025年2月16日 中国美容医学 2025年第2期
     [摘要]目的:比较两种不同正畸托槽粘接剂在去除托槽后对牙釉质表面的影响。方法:将40颗离体牙随机分为两组,实验组采用GC正畸用树脂强化型玻璃离子水门汀、对照组采用3M正畸光固化树脂型粘接剂进行金属托槽粘接。拆除托槽后分别对牙面粘接前、拆除托槽后和金刚砂车针+矽粒子序列抛光后的牙表面粗糙度值测量并进行分析对比;随机在两组中各选择4个样本,在托槽粘接前、拆除托槽后、金刚砂车针+矽粒子序列抛光后的釉质表面、剖面进行电镜观察。结果:在拆除托槽后牙面粘接剂的残留指数方面,实验组与对照组差异有统计学意义(P<0.05)。拆除托槽后牙面粗糙度值对比,两组差异有统计学意义(P<0.05);经过金刚砂车针+矽粒子序列抛光后对比,两组粗糙度值比较差异无统计学意义(P>0.05),但操作时间比较差异有统计学意义(P<0.05)。电镜显示:抛光后实验组牙面残留少,颗粒粗,牙釉质内树脂突少;对照组牙面残留多,颗粒细,牙釉质内树脂突多。结论:GC正畸用树脂强化型玻璃离子水门汀与3M正畸粘接树脂均易被金刚砂抛光车针+矽粒子序列抛光清除,但GC正畸用树脂强化型玻璃离子水门汀清除时间短,在牙釉质表面及釉质内残留少。

    [关键词]正畸;粘接剂;磨除;抛光;牙釉质;影响

    [中图分类号]R783.5" " [文献标志码]A" " [文章编号]1008-6455(2025)02-0160-04

    Effects of Two Kinds of Orthodontic Adhesives on Enamel Surface after Polishing and Brushing in Vitro

    DONG Honggang1, HUANG Pengfei1, DONG Liangying2, ZHANG Lan1, GU Zexu3

    ( 1.Department of Orthodontics, Xi'an Haitao Dental Hospital, Xi'an 710065, Shaanxi, China; 2. The Second Affiliated Hospital of Xinjiang Medical University, Urumqi 830092, Xinjiang, China; 3.Department of Orthodontics, College of Stomatology, the Fourth Military Medical University, Xi'an 710032, Shaanxi, China ) ......

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