郎 奕，崔方圆，邹忆怀

    VBM及DTI技术应用于脑卒中的研究现状

    郎奕1，2，崔方圆1，邹忆怀1

    1.北京中医药大学东直门医院(北京 100700)；2.北京大学人民医院(北京 100044)

    摘要：近几年随着各种脑成像技术的发展，基于体素形态学技术(VBM)及弥散张量成像技术(DTI) 对脑卒中早期诊断，卒中后脑灰、白质结构损伤修复的评估研究逐渐成为研究热点之一。本研究对卒中后脑结构成像的磁共振研究进展进行综述。

    关键词：脑卒中；体素形态学技术；弥散张量成像技术；脑功能重组；脑结构重塑

    脑卒中的发病及康复机制一直是国内外学者所关注并亟待解决的问题，近年来国内外临床和实验研究显示脑卒中后脑组织具有重塑功能，且普遍认为脑功能重组[1-3]和脑结构的重塑[4]是卒中后脑组织功能代偿，肢体运动功能康复的主要机制。基于体素形态学测量法和弥散张量成像法是明确脑卒中病灶及相关脑结构病理改变的重要手段，也为疾病早期诊断、病情评估，治疗时机选择提供了必要的技术支持，为卒中后脑神经功能的恢复提供了直观的可视化依据。

    1基于体素形态学的脑卒中研究

    1.1VBM技术的研究方法及应用概述体素形态学技术(voxel-based morphometry，VBM)摆脱了传统体积测算法的局限性，无须人为设定感兴趣区域(region of interest，ROI)，可在全脑水平定量反映脑组织结构的微小变化，获得局部脑区特征和不同成分的差异，从而评价脑灰质、白质的病变，是一种全面、客观、可重复的分析方法。操作时需将所有受试者的脑T1结构像标准化到同一模板上，并将配准后的脑结构像分割成脑脊液、灰质、白质和非脑像素，利用广义线性模型等统计方法比较分析，最终检测出脑组织的体积和密度，定量分析脑组织的形态学异常[5-6]。

    该法最早由Ashburner 和Friston正式提出，自提出之后备受研究者关注，并随着VBM技术的逐渐成熟，广泛应用于中枢神经系统研究的各领域之中。Wang等[7]应用体素形态学测量技术研究轻度认知功能障碍病人脑结构状况，发现病人在双侧颞下回(inferior temporal gyrus)、右侧扣带回和角回(angular gyrus)出现白质密度的减少，且大脑前部的白质密度较后部减少明显。Weng等[8]回顾了2000年—2014年关于发作性睡病VBM文献研究发现，发作性睡病病人与健康人相比在双侧丘脑(thalamus)、前扣带回(cingulate cortex)、右侧额下回(inferior frontal gyrus)、颞上回(superior temporal gyrus)出现灰质体积下降 ......